真空機組GZK-1012 參考價：面議
產品簡介：真空機組GZK-101是低真空機組，極限真空度為10-3torr，內部裝有雙旋機械泵TRP-12配套使用，接口為KF-D25，并配有高真空法蘭、數(shù)字式...
雙級旋片式真空泵VRD系列2 參考價：面議
產品簡介：雙級旋片式真空泵VRD系列包括VRD-8、VRD-16
高真空系統(tǒng)GZK-103D3 參考價：面議
產品簡介：英國的Edwardvacuumpump（由隔膜泵和斡旋分子泵組成），被安裝在一移動殼體中（殼體上可以放高溫爐）
德國小型渦輪分子泵EQ-PV-HVS2 參考價：面議
產品簡介：德國小型渦輪分子泵EQ-PV-HVS配有KF40真空波紋管和KF25真空計，真空范圍從10-3mbar-10-7mbar，啟動后短時間即可獲得較高的真...
AP-1400V無油真空泵 參考價：面議
產品簡介：AP-1400V無油真空泵是我司經過篩選出的蕞適合實驗室進行真空操作的設備，該款真空泵具有體積小巧，操作簡單，噪音小，使用壽命長等優(yōu)點
進口無油真空泵（226Lmin）ACP152 參考價：面議
產品簡介：進口無油真空泵（226L/min）ACP15因為泵內無油，所以在真空狀態(tài)下無油霧產生，從而為實驗提供了一個潔凈的低壓環(huán)境，特別適合與我司管式爐配合使用...
系列高功率數(shù)控超聲波清洗機 參考價：面議
產品簡介：系列高功率數(shù)控超聲波清洗機采用超聲發(fā)生源與清洗槽落地式一體化設計，采用高功率發(fā)射超聲波，超聲波頻率高，清洗能力強
VGT-1620TD超聲波清洗機 參考價：面議
產品簡介：VGT-1620TD超聲波清洗機是一款利用超聲波高頻率振動對物品進行清洗的原理，主要用于清洗眼鏡、珠寶首飾、鐘表等，并可在機械、紡織、電子、化纖、石油...
VGT-1620QTD超聲波清洗機4 參考價：面議
產品簡介：VGT-1620QTD超聲波清洗機是一款利用超聲波高頻率振動對物品進行清洗的原理，主要用于清洗眼鏡、珠寶首飾、鐘表等，并可在機械、紡織、電子、化纖、石...
生長納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW 參考價：面議
產品簡介：生長納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐，專為生長各種納米線而設計，基片3″
快速升溫CVD系統(tǒng)RTP-1000-F3LV 參考價：面議
產品簡介：快速升溫CVD系統(tǒng)RTP-1000-F3LV是專為半導體基片、太陽能電池及其它樣品（尺寸可達3″）的退火而設計，配有3路流量計和機械泵
開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV 參考價：面議
產品簡介：開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區(qū)管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統(tǒng)組成，可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合...
高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV 參考價：面議
產品簡介：高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV是由九通道質量流量控制器和高真空機組組成的CVD系統(tǒng)，其爐管直徑為4″，溫度可達1200℃，...
高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV 參考價：面議
產品簡介：高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統(tǒng)和高真空機組組成，可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品（...
高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV 參考價：面議
產品簡介：高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成，工作溫度可達1200℃，混氣系統(tǒng)可以對兩種氣體進...
帶滑動法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-5-III-F3LV 參考價：面議
產品簡介：帶滑動法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加熱至1200℃，并通過調整三個溫區(qū)而建立不同梯度的熱場，可進行退火、擴散、...
1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-4-C2HV 參考價：面議
產品簡介：1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-4-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成，工作溫度可達1600℃，混氣系...
1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)GSL-1700X-F3LV 參考價：面議
產品簡介：1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)GSL-1700X-F3LV是由單溫區(qū)管式爐、三路浮子混氣系統(tǒng)和雙旋片式真空泵組成，工作溫度可達1700℃，混氣系...
1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-C4LV 參考價：面議
產品簡介：1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-C4LV是專門為在金屬箔表面生長薄膜而設計的，特別是應用在新一代能源——柔性金屬箔電極...
4路質子混氣管式PECVD系統(tǒng) 參考價：面議
產品簡介：4路質子混氣管式PECVD系統(tǒng)是為了使化學反應能在較低的溫度下進行
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